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防塵服は着用者からの発塵モデル

1965年発行のPhilp R Austin氏の「Design and Operation of Cleen rooms」の第10章は「Garments」です。私共は1974年からこの理論を忠実に実行してまいりました。クリーンルーム内での発塵源の40%以上は人体からといわれております。

クリーンルームの設備管理者、プロセスの管理者を始として、その設計及び施工者、フィルターの制作者、クリーンルーム用衣服の設計及び縫製者、衣服の清浄管理者等の研究の成果もあり、清浄度向上については衣服の清浄化と同時に無人化も大いに研究されて参りました。

Austin氏の著書の第11章が「Metal Cleaning」であったことも記憶に新であります。

1983年から「精密機器及び部品」等の「表面汚染管理」につき研究を重ねてまいりました。幸い1984年に、標題のSCCテストプラント第1号を完成することができました。256KビットダイナミックRAMが量産され、1M ビットの半導体も量産を開始している現今、そのプロセス中での0.50.1um粒径の微細粒子の清浄管理は必要欠くべからざるファクターの一つとされております。

 精密洗浄については、前工程として、溶剤による異物溶解をします。後工程として、CR内で18.4   〔理論比抵抗の超純水を使用し、除電装置を併用して行われます。

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