クリーンウエアの特殊クリーニング

工業クリーニングは1940年代アメリカにありまして特に二次製品の生産管理のためのクリーン化処理が主流になっておりました。第二次世界大戦後、1962年にJ.F.ケネディー大統領により提案されたアポロ計画以後、高度精密工業が先進国に於て急速に発達し、その研究開発が重要なテーマとなって参りました。

日米欧に於ける特に半導体産業も急速な発展を成し、それ等産業とパラレルに私共は研究を進めて参りました。そして遂に1976年（昭和51年）6月、日本CIC研究所により第1号CICプラントを建設する事が出来ました。

エレクトロニクス分野の ULSI等の製造のためのクリーンルームの維持管理の補佐役として、又、製薬、食品等の製造ラインについてはGMP、FDA基準適合のための補佐役として、前向きに協力させていただいております。